公告光陽工業股份有限公司路竹廠所在土地為地下水污染整治場址。

中華民國104年3月18日 環署土字第1040021036E號
主　　旨：公告光陽工業股份有限公司路竹廠所在土地為地下水污染整治場址。 依　　據：土壤及地下水污染整治法第12條第3項。 公告事項： 一、污染行為人姓名或名稱：光陽工業股份有限公司。 二、場址名稱：光陽工業股份有限公司路竹廠。 三、場址地址：高雄市路竹區中山南路61號。 四、場址地號：高雄市路竹區北嶺段196、197-1、198-1、199、201、201-1、201-2、202、202-1、211、211-1、212、213、214、215、216、362、380地號。 五、場址面積：面積共52683.9平方公尺。 六、場址座標：入口座標為174772E，2524996N（TWD97）。 七、場址現況概述：該場址位於光業工業股份有限公司所屬路竹廠，土地所有權人光陽工業股份有限公司目前營運中，主要從事機車組件之機械加工、熱處理、清洗、組立等。 八、場址列管狀態：本場址已由高雄市政府於103年2月10日以高市環局土字第10330802103號公告為地下水污染控制場址及地下水污染管制區。 九、污染物及污染情形： (一) 污染情形：本署於102年6月辦理「運作中工廠土壤及地下水含氯有機溶劑污染潛勢調查及查證計畫（第4期）調查結果，地下水氯乙烯濃度1.04 mg/L（管制標準0.02 mg/L）、1,1-二氯乙烯濃度3.26 mg/L（管制標準0.07 mg/L），皆已超過地下水污染管制標準。 (二) 初步評估結果：地下水氯乙烯濃度1.04 mg/L、1,1-二氯乙烯濃度3.26 mg/L，計算場址污染影響潛勢評估總分TOL值為6898.9分，超過1,200分，符合「土壤及地下水污染場址初步評估暨處理等級評定辦法」第8條第1項第1款規定，應公告為地下水污染整治場址。 十、其他重要事項： (一) 本場址相關管制事項，仍依高雄市政府環境保護局103年2月10日高市環局土字第10330802103號公告地下水污染管制區之管制項目辦理。 (二) 如有不服本處分，得於公告本處分次日起30日內，繕具訴願書並檢附本處分，經由本署轉送行政院提起訴願。 署　　長　魏國彥 　 附表一 場址基本資料表 　 　 附表二　 土壤污染途徑影響潛勢評分 　 　 　 附表二之一 公告污染場址面積因子評分表 　 　 附表二之二 土壤污染物之毒性特性因子評分表 　 　 附表三 地下水污染途徑影響潛勢評分表 　 　 　 附表三之一 公告地下水污染管制區面積因子評分表 　 　 附表三之二 地下水污染物之毒性特性因子評分表 　 　 附表三之三 地下水污染物之水中溶解性因子評分表 　 　 附表三之四 地下水途徑含水層水力傳導係數因子 　 　 附表四 場址污染影響潛勢評估總分評分表 　 　 附表五 控制場址之初步評估表